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仁昌小科:告訴你5種方法減少鍍鉻中的污染

發(fā)布時(shí)間:2019-11-30 17:15 作者:仁昌奧克 文章來源:仁昌科技
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目前生產(chǎn)中應(yīng)用的鍍鉻添加劑主要是六價(jià)鉻溶液,六價(jià)鉻是對(duì)人危害很大的物質(zhì),鍍鉻生產(chǎn)中的污染主要是清洗水和排出廢氣中六價(jià)鉻的污染,減少污染的辦法有以下幾方面。


(1)改變傳統(tǒng)的鍍鉻工藝

1)降低濃度。

對(duì)于Cr0,為250g/L的標(biāo)準(zhǔn)溶液,在不影響鉻層性質(zhì)的條件下,可將含量降至l80~200g/L。降低含量可以減少零件攜帶的鉻酸,減少清洗水處理負(fù)擔(dān),而且也可使排出廢氣中的鉻霧含量降低。使用較低鉻酸含量溶液還可使鍍鉻電流效率提高。

對(duì)于一般裝飾鉻工藝c以含量300~350g/L,當(dāng)使用稀土催化劑后,Cr0,含量可降低至120~200g/L,同樣可以減少排出的水、氣中的鉻含量。

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2)降低鍍液溫度。


可以減少鉻酸的蒸發(fā),對(duì)排風(fēng)中的鉻霧含量也可大大降低,從而減少對(duì)空氣的污染。如使用稀土添加劑的裝飾鉻,工藝溫度可由40~ 50℃降至20~35℃。

3)選用合適的催化劑。

一般鍍鉻的電流效率低,提高沉積速度的辦法是提高電流密度,此辦法會(huì)造成析氫加劇,導(dǎo)致排風(fēng)中的鉻霧增大。

如果使用復(fù)合鍍鉻、稀土鍍鉻添加劑,在相同時(shí)間內(nèi)得到同樣厚度的鉻層,由于電流效率提高,可以使用較低的電流。因而析氫則大大減少,從而減少鉻霧的排出。

(2)減少零件攜帶量減少零件攜帶量,是減少清洗水濃度,減輕水污染的有效辦法。

減少零件攜帶量最簡(jiǎn)單而可靠的辦法是當(dāng)零件提出溶液后停留滴液,停留8一10s可使零件上附著的溶液減少,而且滴下的均為濃液。從而使下一步水洗負(fù)擔(dān)減輕。采取合理的零件裝掛的方式,使零件中攜帶的溶液,在滴液中能全部或大部滴出。

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(3)采用回收和逆流清洗一般在鍍鉻后,設(shè)五級(jí)回收或逆流清洗。

當(dāng)經(jīng)五級(jí)水洗后,第五級(jí)水中六價(jià)鉻含量會(huì)達(dá)到50~100mg/L。越靠近鍍槽的清洗水槽中鉻酸濃度越高,離開鍍槽遠(yuǎn)的清洗水槽中鉻酸含量依次遞減。工作時(shí)鍍槽需經(jīng)常補(bǔ)水,此時(shí)可補(bǔ)入第一級(jí)含量最高的清洗水。即可達(dá)到補(bǔ)水的目的,又可回收大量鉻酸。其他四級(jí)依次向前補(bǔ),只在最后一級(jí)需補(bǔ)入純凈水。零件形狀簡(jiǎn)單時(shí)可以不排水,即使排水,也是鉻酸含量低、含量穩(wěn)定的易處理的廢水。

(4)回收鉻霧排風(fēng)中含有大量鉻酸,可在鍍槽抽風(fēng)罩后設(shè)置鉻霧回收器,通過減緩風(fēng)速,使鉻霧在回收器的網(wǎng)上沉積下來,定時(shí)用水清洗,可直接回收到鍍槽。

如怕污染鍍液或雜質(zhì)積累,此部分鉻酸也可直接應(yīng)用到鍍鋅鈍化中,鉻霧回收器安裝位置最好在離鍍鉻風(fēng)罩最近的位置,否則鉻霧會(huì)沉積在回收器與邊緣風(fēng)罩之間的風(fēng)道內(nèi),回收困難,容易造成新的污染。

裝飾鍍鉻可采用鉻霧抑制荊,減少鉻霧溢出。但鍍硬鉻因厚度大,零件在溶液界面處易產(chǎn)生麻點(diǎn)而影響質(zhì)量,不可采用鉻霧抑制劑。

(5)采用三價(jià)鉻鍍鉻

三價(jià)鉻鍍鉻已經(jīng)有了長(zhǎng)足的發(fā)展,色澤也與六價(jià)鉻鍍鉻很接近,在裝飾性鍍鉻中已有大規(guī)模應(yīng)用,市場(chǎng)上有成熟的工藝出售,這是個(gè)解決污染的現(xiàn)實(shí)途徑。

(6)采用代鉻鍍層

比如錫一鈷一鋅合金,但在耐磨性上的差距限制了它的推廣。

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在此推薦本司RC-842高速裝飾性鍍鉻添加劑工藝;



RC-842高速裝飾性鍍鉻添加劑工藝特點(diǎn):

?采用易控制的可溶性混合催化劑,操作簡(jiǎn)單;

?有較高的陰極電流效率,能在高電流密度下操作;

?工件可得到好的活化,有較廣的光亮范圍;

?對(duì)雜質(zhì)容忍度好;

?優(yōu)越的覆蓋和分散能力。



高速裝飾性鍍鉻添加劑組成原料的功用:

?鉻酸:是鍍液中必要的成分。鉻酸濃度上升時(shí),鍍液的導(dǎo)電會(huì)提高而陰極電流效率則下降。鉻含量不足時(shí),工件就容易在高電流區(qū)燒焦。

?硫酸:鍍鉻液中必需含有一定量的硫酸根,才能使六價(jià)鉻還原為金屬鉻。應(yīng)控制鉻酸、硫酸比在200:1。如比例過高(硫酸不足),就會(huì)減低鍍層的沉積速度和光澤度,鍍層會(huì)出現(xiàn)黑色條紋及棕色的鉻漬。如比例偏低(硫酸太多),雖然稍微提高鍍層的光亮程度,但卻使陰極電流效率、沉積速度及深度能力降低。如鍍液中的硫酸含量過高,用碳酸鋇沉淀過多的硫酸,每2克碳酸鋇可沉積1克硫酸。

?三價(jià)鉻:新配鍍液經(jīng)電解后,有三價(jià)鉻產(chǎn)生。其含量一般為0.5-2克、升。三價(jià)鉻過低,沉積速度緩慢,鍍層較軟,鍍液均鍍能力差。三價(jià)鉻過高時(shí),鍍層光亮范圍縮小,溶液導(dǎo)電率下降。三價(jià)鉻的濃度受陰陽極面積比例所影響,小陰極面積、大陽極面積的電解可降低過多的三價(jià)鉻,反之則可以提高三價(jià)鉻含量。一般陽極面積、陰極面積為1.5:1到1:1。


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